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洞察全球光电趋势,聚焦微纳3D打印技术产学研用融合

更新时间:2024-03-01      点击次数:3425

光电产业正处于蓬勃发展的关键时期,全球联接数量和算力需求的翻倍催生了新的机遇。中国的增材制造产业正在其庞大的国内市场中锤炼技术,将这些技术转化为创新的产品和服务。这些产品和服务不仅服务于我国客户的数字化转型,更将中国技术与实践方案送往全球市场。在这一过程中,包括光电信设备、光器件、光模块、传感技术以及半导体加工与制造在内的多个领域,都显示出巨大的市场发展潜力。

技术出海-走向国际的硬核科技

亚洲光电博览会(APE 2024)将于2024年3月6-8日在新加坡Sands Expo And Convention Centre 盛大举行。展会将涵盖信息通信、光学、激光、红外、传感、显示等产品,其中在通信板块中将重点展示光芯片、光器件、光模块、光纤光缆、光传输设备等。展会期间,APE还将围绕未来趋势、前沿技术、行业热点及创新性应用场景等议题展开深入探讨,共同挖掘光电领域的无限可能,推动这一领域向更高层次的发展。

如今,东南亚地区具有广泛的市场潜力和庞大的年轻人口基数,随着近两年当地光电企业的蓬勃发展,正在不断加强精密化基础设施建设,尤其是对精密化和数字化的需求在迅速增长。

摩方精密深耕行业探索,以突破传统技术为追求,以市场需求为导向。本次展会摩方精密将携重磅设备microArch® S240(精度:10μm)以及精密复杂连接器、芯片测试接插件、树脂内窥镜端座、微流控、微针贴片等终端应用和结构样件亮相展位Hall D, DC-03,通过与业界优秀企业的交流与合作,助力光电领域企业解决精密制造问题,共同探讨光电领域的未来发展方向。

极客精神-以技术创新为内核

在全球工业制造日益精密化、精准化和小型化的趋势下,对精确度的追求已经成为行业发展的关键所在。摩方精密一直在科研及工业领域稳扎稳打,用匠心务实的精神深耕于精密制造多元应用的探索,不断追求创新,致力于开发新技术、新装备、新材料及新工艺。

摩方精密的面投影微立体光刻(PμSL)技术,是目前行业内极少能实现2μm超高精度,同时兼具高公差控制加工能力的3D打印系统,能保证精度的基础上加工大尺寸样件,具有跨尺度功能,并且能使微纳3D打印技术用于加工粘稠的陶瓷浆料、工程树脂材料等。在媲美传统精密加工的同时,兼具工业级加工能力和质量,能够高效地生产出高公差控制且高分辨率的零部件。

摩方精密即将推向全球市场的复合精度光固化3D打印技术,将为更小特征尺寸的复杂结构加工处理提供一套全新的解决方案。该技术不仅能够智能捕捉模型结构细节,实现同一平面上不同精度的自由切换,且具备设计灵活性与制造稳定性,这将赋予工业制造领域更多可能性。

研发驱动-助力企业迈入高速发展快车道

面对日益增长的连接和传感需求,摩方精密致力于深入行业应用,为大容量数据传输和高速高密度连接领域提供高效、可靠的解决方案。

复杂精密微型化的样件开发一直存在着加工周期长和成本高等问题。摩方超高精密3D打印技术和传统CNC以及注塑成型相比,高精密3D打印技术在加工精密样件方面明显具有精度高、成本低、和周期短等明显优势。

摩方精密与安费诺旗下的4个大通讯生产厂、6个研发与生产点进行合作,解决了他们在研发、制样过程中的难题。打印的样品精度等参数达到其要求,且大幅缩短制造周期,提高了其研发部门的效率,降低了试错成本。

广濑电机为了缩短开发周期,选择使用摩方精密nanoArch® S140(精度:10μm)制作电子连接器原型。这些连接器的宽度为几毫米,高度仅为 1 毫米,且连接器针之间的间隔为 0.4 毫米。该司表示nanoArch® S140是能够满足最小细节精度和准确性的 3D 打印机。

本次大会摩方精密将在现场展示microArch® S240(精度:10μm),该设备是摩方精密一款面向工业批量生产的超高精密3D打印机,具有超高精度,大幅面,宏微一体化加工等多种优势,并获得全球光电科技领域最高奖“棱镜奖(Prism Award)”。

摩方精密在国际化的道路上稳扎稳打,不断加强与全球客户的紧密协作,共同挖掘更多元的应用领域。摩方始终坚持以品质为基石,以创新为内核,以服务为后盾,稳步迈向全球,致力在布道微纳3D打印的路上远行,持续构建创想生态,助力国产技术走向世界。

诚邀您莅临亚洲光电博览会摩方精密展位Hall D, DC-03,与全球优秀行业共话通信未来,共启光电探索之旅!