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10μm精度微纳3D打印系统

简要描述:nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。

  • 产品型号:nanoArch S140
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-11-02
  • 访  问  量:353

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详细介绍

品牌自营品牌应用领域医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药
光学精度10μm
nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
 
nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
 
打印材料
 
通用型
 
丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。
 
个性化
 
405nm固化波段的光敏树脂材料 ,支持透明树脂,柔性树脂,硬性树脂,纳米颗粒掺杂复合树脂,4D打印树脂,生物医疗树脂等,需适配不同的工艺和模型,不保证打印性能。
 
nanoArchR S140 10μm系统性能

 

高精密3D打印

 

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