高精密增材制造3D打印是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。

微纳增材制造精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

高精密3D打印系统采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术和数字微流控芯片。拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch S130 2μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。

microArch S240---3D打印连接器应用参数： 最小壁厚0.1mm，最小间距0.14mm； 快速打印精密结构，可实现小批量快速验证。