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Product CenternanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。
nanoArch P150 25μm高精密3D打印系统是科研级3D打印系统,拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚,具备优良的光源稳定性,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArch P140 10μm精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。
microArch S240A 10μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术(PμSL)构建,并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。