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2μm精度微纳3D打印系统

简要描述:nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。

  • 产品型号:nanoArch S130
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-08-19
  • 访  问  量:454

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详细介绍

品牌自营品牌应用领域医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药
光学精度2μm打印材料光敏树脂
打印层厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一、产品介绍

nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统,将需打印模型分层投影至树脂液面,快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势,被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。



二、基本参数

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度:2μm

打印层厚:5-20μm

打印尺寸:

①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(单投影模式)

②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重复阵列模式)

文件格式:STL

系统外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量:550kg

电气要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW



三、应用领域

nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域



四、企业简介

摩方精密(BMF,Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发,提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案,同时,可结合不同材料及工艺,实现终端产品高效、低成本批量化生成及销售。











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