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光刻技术

简要描述:nanoArch S130 2μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术(PμSL)构建,并融入了摩方自主开发的多项技术。

  • 产品型号:nanoArch S130
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-08-23
  • 访  问  量:477

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详细介绍

品牌自营品牌应用领域医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药
光学精度2μm打印材料光敏树脂
打印层厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一、3D光刻技术介绍

摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。


在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。



二、3D光刻技术功能介绍

先进的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度,使打印速度最高提升10倍以上;

能够处理高达20000cps的高粘度树脂,从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件;

能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料,包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。


三、微纳3D打印系统打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。


工业级复合聚合物,例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。


个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。




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