nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。

nanoArch P140 10μm精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

microArch S240 10μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。

3D打印内窥镜服务 为全球客户提供打印力学超材料、三维复杂仿生结构、生物医疗器件、微机械结构、微流控样件等科研加工服务，以及连接器、内窥镜、接插件等工业加工服务。