摩方高精度光固化3d打印机microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立体光刻技术（PμSL）构建。全自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，打印效率提升近50倍。

摩方精密高精度光固化3d打印机microArch® S230A，依托于创新的PμSL技术，实现高达2微米光学精度，支持光敏树脂、陶瓷浆料打印。这项技术基于数字光处理（DLP）系统，通过将紫外光投影至光敏材料表面，精确固化每一层微结构。相较于传统点扫描方式，PμSL采用整层曝光，使得打印速度更快、结构一致性更高、边缘清晰度更优。

一、microArch® S230A设备规格

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏树脂、陶瓷浆料

光学精度：2μm

打印层厚：5~20μm

打印样品尺寸：

模式1：单投影模式：3.84mm(L)×2.16mm(W)×50mm(H)

模式2：拼接模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

模式3：重复阵列模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

打印文件格式：STL

系统外形尺寸：1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量：660kg

电气要求：220~240V AC,50/60HZ,2KW

设备特点优势

超高精度：光学精度高达2μm；

配置激光测距，便于打印平台和离型膜的调平；

配置滚刀，用于打印材料快速流平，且支持打印高黏度树脂；

配备高精密运动控制系统，XYZ运动轴的重复定位精度±0.2μm；

工业级的设备标准，易操作，易维护；

配置气浮平台，提高打印质量；

优良的光源稳定性；

配套量身定制的打印软件、切片软件。

二、microArch® S230A应用领域

1、微流控芯片制造

在生命科学和POCT（即时诊断）等领域，微流控芯片的通道宽度往往在几十微米甚至更小。摩方2μm微纳3D打印设备能够应用于微流控平台、器官芯片、单细胞分析平台的构建，其高精度打印能力有效保障了通道尺寸一致性与液体传输效率，助力生物医学微系统精密集成。

2、精密光学结构与微透镜阵列

传统微透镜或自由曲面元件多依赖超精密CNC或注塑模具加工，成本高、开发周期长。借助2微米精度的3D打印技术，用户可以快速设计并制造高曲率自由曲面光学结构，用于增强VR/AR成像、太赫兹波导、光波导通信等领域的光学性能。

3、微型器件与传感器

在传感器、微型执行器等领域，摩方精密支持微米级连接通道以及复杂结构的原位制造，为小型化、集成化电子元器件的研发提供了解决路径。同时，陶瓷、光敏树脂等材料兼容性，也使得这类器件具备更强的环境适应能力。