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microArch S240A 10μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
更新时间：2025-09-09
产品型号：microArch S240A
浏览量：7189
新一代2μm高精度3D打印系统microArch®S330A，光学精度2μm，最大成型尺寸拓展至100×100×50 mm³，突破性实现打印速度、成型幅面、设备性能协同升级，为全球科研创新与精密工业制造，提供全新的微纳增材解决方案。
更新时间：2026-09-16产品型号：浏览量：232
高速微纳3D打印系统microArch® S150 Ultra，光学精度25μm，最高4s/层高速打印模式，支持光敏树脂、生物材料打印，在打印速度、稳定性与应用拓展能力得到显著提升。
更新时间：2026-03-18产品型号：microArch® S150 Ultra浏览量：452
微纳3D打印microArch® S240A基于PμSL技术，具备10微米打印精度，支持光敏树脂和陶瓷浆料打印，专注于微尺度结构的稳定成型。系统搭载自动调平系统，集平台自动调平，绷膜自动调平和滚刀自动调节三大功能，使工艺参数设置、液面调平、流平时间等步骤实现全自动作业模式。
更新时间：2025-09-09产品型号：microArch® S240A浏览量：948
摩方高精度光固化3d打印机microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立体光刻技术（PμSL）构建。全自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，打印效率提升近50倍。
更新时间：2025-09-09产品型号：microArch® S230A浏览量：1992
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